ナノ・磁性・光物性を支える
高度材料研究拠点

設備一覧

利用可能な研究設備と分析技術

本センターでは、材料の構造解析・組成分析・物性評価を可能とする
各種先端分析装置を備えています。

ナノスケールでの構造観察や表面分析、微細加工、磁気特性評価など、
多様な材料研究に対応可能です。

 

  • 電界放射型透過電子顕微鏡（FE-TEM）    Field Emission Transmission Electron Microscope
      　集束性に優れた電界放射電子ビーム源を持つ加速電圧200keVの透過型電子顕微鏡。
       　エネルギー分散型のX線分光装置を備え極微小部の組成分析が高感度で行える。 （日立製作所製 HF-2000）

　　　

 

 

  • 電界放射型透過電子顕微鏡（FE-SEM）    Field Emission Scanning Electron Microscope
      　電子線を試料に当て、試料から出てくる情報を読み取り、小さなものを見る装置です。
      　複雑な形状の試料をそのまま見ることができます。　　（日立製作所製 S-4500）

　　　

 

 

  • 集束イオンビーム加工装置（FIB）     Focused Ion Beam Etching Machine      　

      　高速に加速された金属イオンビームを試料に当てることにより試料を削って加工する装置です。
      　この装置の特徴は試料の形状を自由にかつ、高精度に加工できることです。　　（日立製作所製 FB-2200）

 

 

  • X線光電子分光装置（XPS）    X-ray Photoelectron Spectroscopy

      　X線を照射し、発生する光電子のエネルギーを分析することで、物質の化学結合等を分析できます。

 

 

  • 無冷媒型SQUID-VSM　磁気特性測定システム（SQUID-VSM)

 

 

  • プローブ走査型顕微鏡SPM　原子間力／磁気力顕微鏡（AFM/MFM）

 

 

  • エリプソメータ

傾斜エッチングを施したSiO2膜の膜厚分布（上）、純水中での陽極酸化膜の膜厚分布（下）

 

 

  • X線回折装置（XRD）

          <設備例>

 

 

  • 多元超薄膜作成装置（3室10元スパッタ）（SMO-01）

　　　<設備例> 

　　　　

 

 

  • 電子線描画装置（EBL）

　　　<設備例> 

 

 

  • 温度可変（10K～500K) 無冷媒強磁場印加(～2.25T)可能

　　　<設備例>